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PGH-33.6LG 高壓氫氣發(fā)生器 (2.0m³/h)含有包括電解槽在內(nèi)的制氫系統(tǒng)開發(fā)及落地，包括但不限于電解槽、供電設(shè)施、純水制備設(shè)施、氣液分離設(shè)施、氫氣純化設(shè)施、PLC控制設(shè)施等。

PGH-16.8LG 高壓氫氣發(fā)生器 (1.0m³/h)含有包括電解槽在內(nèi)的制氫系統(tǒng)開發(fā)及落地，包括但不限于電解槽、供電設(shè)施、純水制備設(shè)施、氣液分離設(shè)施、氫氣純化設(shè)施、PLC控制設(shè)施等。

PGH-10LG 高壓氫氣發(fā)生器 (0.6m³/h)含有包括電解槽在內(nèi)的制氫系統(tǒng)開發(fā)及落地，包括但不限于電解槽、供電設(shè)施、純水制備設(shè)施、氣液分離設(shè)施、氫氣純化設(shè)施、PLC控制設(shè)施等。